Sistema di rivestimento per evaporazione ad alto vuoto a quattro sorgenti 1800c per la deposizione di film metallico
Macchina di rivestimento per evaporazione ad alto vuoto a quattro sorgenti 1800C per la deposizione di film metallici In;
Informazioni di base
Modello numero: | CY-EVP325S-4S-T |
Condizione | Nuovo |
fonte di evaporazione | Wolfraboot X2 |
Dimensioni della camera | È. 300 mm*400 mm |
Materiale della camera | Acciaio inossidabile 304 |
Pompa di supporto | Pompa rotativa a palette a due stadi |
Pompa secondaria | Pompa turbomolecolare |
Vuoto definitivo | 1,0e-5PA |
Tensione di alimentazione | CA 380 V, 50 Hz |
Potere totale | 5kW |
Pacchetto di trasporto | Scatola di legno all'esterno, carta di plastica all'interno |
specifica | Fatto su misura |
marchio | CYKY |
Origine | Zhengzhou, Cina |
Codice HS | 8402111000 |
Capacità produttiva | 100 pezzi/mese |
Descrizione del prodotto
Macchina di rivestimento per evaporazione ad alto vuoto a quattro sorgenti 1800C per l'applicazione di pellicole metallicheIntroduzione di un rivestimento per evaporazione ad alto vuoto a quattro fonti:
Questo dispositivo è un dispositivo di rivestimento per deposizione di vapore ad alto vuoto a quattro sorgenti. Il dispositivo è dotato di una camera a vuoto con sportello ad apertura frontale. Inoltre, la camera viene ampliata a 500 mm. La distanza tra il tavolo portacampioni e la fonte di evaporazione ha un intervallo di regolazione più ampio, che può essere adattato alle diverse esigenze di evaporazione. Impedisce che il campione venga danneggiato dall'elevata temperatura della fonte di evaporazione.
La camera ha un piano campione superiore, il piano campione può essere ruotato, riscaldato e sollevato e tutte le operazioni possono essere integrate e controllate tramite il touch screen. Il sistema di vuoto dell'apparecchiatura è un sistema di vuoto a due stadi, composto da una pompa a palette rotativa a due stadi e una pompa turbomolecolare, in grado di fornire un ambiente ad alto vuoto pulito e privo di olio. Il dispositivo è dotato di un sistema di valvole pneumatiche. Il controllo automatico del sistema operativo consente all'utente di eseguire operazioni come il pompaggio del vuoto con un solo pulsante, la rimozione e il posizionamento continuo del campione e lo spegnimento completo tramite il touch screen.
L'apparecchiatura è dotata di quattro set di fonti di evaporazione a barca di tungsteno e un elettrodo di rame raffreddato ad acqua. Ciascuna fonte di evaporazione supporta una corrente elevata di 100 A e una temperatura di riscaldamento di 1800°C. Può realizzare rivestimenti multistrato o rivestimenti misti di più materiali.
Parametri tecnici del dispositivo di rivestimento per evaporazione ad alto vuoto a quattro fonti:
Sistema di rivestimento ad alto vuoto con quattro sorgenti | ||||
Fase di prova | Misurare | Massimo supporto per campioni con diametro di 150 mm | Altezza | 140 mm regolabile su e giù |
fonte di evaporazione | Folla | Barca in tungsteno x4 | ||
Camera sottovuoto | Dimensioni della camera | Ø325mmx510mm | finestra di osservazione | Frontale φ100mm con piastra ombreggiante |
Materiale della camera | Acciaio inossidabile 304 | Metodo aperto | Aprendo la porta d'ingresso | |
Controllo dello spessore del film | Spessimetro del film con oscillatore a cristallo, controller dello spessore del film multicanale opzionale | |||
Sistema di vuoto | Pompa a vuoto | Pompa rotativa a palette a due stadi | Porto di pompaggio | KF16 |
Pompa secondaria | Pompa turbomolecolare | Porto di pompaggio | CF160 | |
Misura del vuoto | Resistenza + ionizzazione Vacuometro composito | velocità di scarico | Pompa meccanica 1,1 l/s | |
Vuoto definitivo | 1,0E-5Pa | Alimentazione elettrica | ||
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